Keine exakte Übersetzung gefunden für موصل ضوئي

Frage & Antwort
Textübersetzung
Übersetzung einfügen
Senden

Übersetzen Englisch Arabisch موصل ضوئي

Englisch
 
Arabisch
relevante Treffer

Textbeispiele
  • Note This definition includes chip sets which are designed to operate together to provide the function of a "microprocessor microcircuit".
    ج - الأنواع الأخرى من الكاثود الضوئي شبه الموصل المركب طراز III-V ؛
  • In the case of photo masks for semiconductors, a dry process is also used for some specific cases.
    وفي حالة أقنعة ضوئية لأشباه الموصلات، تستخدم أيضاً عملية جافة لبعض الحالات الخاصة.
  • A dry etching process is applied to high-end ultra-fine patterns of semiconductor photo masks.
    تطبق عملية النمش الجاف على أنماط غاية في الدقة لنهاية عالية للأقنعة الضوئية لأشباه الموصلات.
  • Equipment, telecommunications, employing a laser Conventional Section: p. 220, 5.B.1.b.2; p. 221, 5.D.1.d.2; p. 222, 5.E.1.c.2
    ج - الأنواع الأخرى من الكاثود الضوئي شبه الموصل المركب طراز III-V؛
  • Ethers, as lubricating fluid Conventional Section: p. 153, 1.C.6.b.1
    الأنواع الأخرى من الكاثود الضوئي شبه الموصل المركب طراز III-V؛
  • In the case of photo masks for semiconductors, a dry process is also used for some specific cases.
    وفي حالة الأقنعة ضوئية لأشباه الموصلات، تستخدم أيضاً عملية جافة لبعض الحالات الخاصة.
  • A dry etching process is applied to high-end ultra-fine patterns of semiconductor photo masks.
    تطبق عملية التنميش الجاف على أنماط غاية في الدقة لنهاية عالية للأقنعة الضوئية لأشباه الموصلات.
  • According to the semi-conductor industry, the operation of PFOS based photo acid generators (PAGs) is critical to the semiconductor industry in the photolithography process.
    طبقاً لصناعة شبه الموصل، إن عملية مولدات الحامض الضوئي PAGs)) القائمة على السلفونات المشبعة بالفلور أوكتين حرجة لصناعة شبه الموصل في العملية الليثوغرافية الضوئية.
  • Erbium oxide (erbia) (Er2O3) made/coated crucibles Nuclear Section: p. 130, 77.1(d)
    ملاحظة لا يشمل البند 6-ألف-2-أ-3-ج الكاثود الضوئي شبه الموصل المركب الذي تبلغ حساسيته الإشعاعية القصوى 10 مللي أمبير لكل واط واحد أو أقل.
  • According to the semi-conductor industry, the operation of PFOS based photo acid generators (PAGs) is critical to the semiconductor industry in the photolithography process.
    وفقا لصناعة أشباه الموصلات، إن عملية مولدات الحامض الضوئي PAGs)) القائمة على السلفونات المشبع بالفلور أوكتين حرجة لصناعة أشباه الموصلات في العملية الليثوغرافية الضوئية.